دلیر پیراف، دانش آموز لیسیوم-اینترنت تاجیکستان و روسیه موسوم به “حاتم و پو” حق شرکت در دور نهای آزمون فناوری نانو کسب کرد
دلیر پیراف، دانش آموز لیسیوم-اینترنت تاجیکستان و روسیه موسوم به “حاتم و پو” حق شرکت در آزمون فناوری نانو که از 1 نوامبر سال 2018 الی 31 ژانویه سال 2019 در دانشگاه دولتی شهر مسکو به نام لاماناس اف برگزار گردید، مقام نخست را کسب کرد و به دور نهای این آزمون راه یافت.
به گزارش خاور به نقل از لیسیوم-اینترنت تاجیکستان و روسیه موسوم به “حاتم و پو” در این آزمون بیش از 8 هزار دانش آموز از 28 کشور دنیا در مراحل گوناگون شرکت کردند.
به گزارش خاور به نقل از لیسیوم-اینترنت تاجیکستان و روسیه موسوم به “حاتم و پو” در این آزمون بیش از 8 هزار دانش آموز از 28 کشور دنیا در مراحل گوناگون شرکت کردند.
Комментарии (0)